集高壓水射流清洗、化學清洗于一體的清洗公司
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工業(yè)設備物理清洗和化學清洗
1.物理清洗是利用力學、聲學、光學、電學、熱學的原理，依靠外來能量的作用，如機械摩擦、超聲波、負壓、高壓、沖擊、紫外線、蒸汽等去除物體表面污垢而不改變污類組分的清洗方法。即不改變原來的化學分子組分的方法。
①機械清洗法：清掃器和刮刀清理法、鉆管清洗法、噴丸清洗法。
②水力清洗法：低壓水力清洗（低壓清洗的壓力為196-686千帕，大約2-7公斤力/平方厘米，等于0.2-0.7Mpa）。
③高壓水力清洗：高壓清洗的壓力為4900千帕，大約50公斤力/平方厘米，等于5Mpa。這種情況方法也叫高壓水射流法、高壓清洗機。
2.化學清洗是依靠化學反應的作用，利用化學藥品或其它溶劑清除物體表面污垢的方法。如用各種無機或有機酸去除物體表面的銹跡、水垢，用氧化劑去除物體表面的色斑等。利用化學藥劑使表面污染或覆蓋層（如垢層）與其發(fā)生化學反應而被除去，如對垢層的酸洗、堿洗等。為使基材在化學清洗中不受腐蝕或使腐蝕率控制在允許范圍內(nèi)，通常在化學清洗液中要加入適量的緩蝕劑和起活化、滲透、潤濕作用的添加劑。方法：浸泡法、循環(huán)法、運轉中清洗法也叫不停車化學清洗法。
3. 電子清洗法防垢、除垢原理是：利用高頻電場改變水的分子結構，使其防垢和除垢。當水通過高頻電場時，其分子物理結構發(fā)生了變化，原來的締合鏈狀大分子，斷裂成單個水分子，水中鹽類的正負離子被單個水分子包圍，運動速度降低，有效碰撞次數(shù)減少，靜電引力下降，無法在受熱壁式管面上結構，從而達到防垢目的。同時由于水分子偶極矩增大，使其與鹽的正負離子（水垢分子吸合能力增大，使受熱面或管壁上的水垢變得松軟，容易脫落，產(chǎn)生了除垢的效果。
4. 靜電防垢、除垢與電子除垢一樣，也是通過改變水分子狀態(tài)來實現(xiàn)防垢、除垢目的的。只不過后者是利用靜電場的作用，而不是電子作用。其機理是水分子具有極性（也稱偶極子），當水偶極子通過靜電場時，每個水偶極子將按正負有序地連續(xù)排列。如水中含有溶解的鹽類，其正負離子將被水偶極子包圍，也按正負順序排列于水偶極子群中，不能自己的運動，因而也就不能靠近管（器）壁，并進而沉積于管（器）壁上形成水垢。同時，水中釋放的氧，可使管壁產(chǎn)生一層極薄的氧化層，可以防止管（器）壁腐蝕。
